BEGIN:VCALENDAR
VERSION:2.0
PRODID:-//https://techplay.jp//JP
CALSCALE:GREGORIAN
METHOD:PUBLISH
X-WR-CALDESC:ハイクラスエンジニアに選ばれる採用戦略
X-WR-CALNAME:ハイクラスエンジニアに選ばれる採用戦略
X-WR-TIMEZONE:Asia/Tokyo
BEGIN:VTIMEZONE
TZID:Asia/Tokyo
BEGIN:STANDARD
DTSTART:19700101T000000
TZOFFSETFROM:+0900
TZOFFSETTO:+0900
TZNAME:JST
END:STANDARD
END:VTIMEZONE
BEGIN:VEVENT
UID:963993@techplay.jp
SUMMARY:ハイクラスエンジニアに選ばれる採用戦略
DTSTART;TZID=Asia/Tokyo:20241118T120000
DTEND;TZID=Asia/Tokyo:20241118T130000
DTSTAMP:20260422T015326Z
CREATED:20241112T031130Z
DESCRIPTION:イベント詳細はこちら\nhttps://techplay.jp/event/96399
 3?utm_medium=referral&utm_source=ics&utm_campaign=ics\n\n11/18 オンラ
 イン開催｜overflow CEO鈴木様ご登壇！ハイクラスエンジ
 ニア採用の動向と未来について\n開催概要\n本イベント
 は、エンジニア採用に注力する企業の皆様に向けて、o
 verflow社とハイヤールー社のエンジニア採用に関する知
 見を提供し、採用成功のヒントをお伝えすることを目
 的としています。特に、ハイクラスエンジニアの採用
 において、ブラックボックス化しがちな失敗事例や成
 功事例を共有し、自社に取り入れていただける実践的
 な内容となっています。\nハイクラスエンジニアの採
 用難易度が年々高まる中で、企業がエンジニアに「選
 ばれる」ための戦略が求められています。本イベント
 では、overflow社とハイヤールー社の両社が、ハイクラ
 スエンジニア採用の動向や未来の展望について深く掘
 り下げてお話しいたします。\nセミナー概要\n\n開催日
 時　|　2024/11/18 12:00-13:00\n開催場所　|　オンライン（ZO
 OM）\n参加費　　|　無料\n対象者　　|　エンジニア採
 用に関わる方、エンジニアリングマネージャーの方、C
 TO等の役割をご担当されている方\n主催　　　|　株式
 会社ハイヤールー\n\n※ 当日予告なく時間配分・内容
 が変更になる可能性がございます。\n登壇者\n\n鈴木 裕
 斗\n株式会社overflow 代表取締役CEO\n株式会社サイバーエ
 ージェントで広告営業を経験。その後、Ameba管轄責任
 者に就く。2014年7月にスタートアップへ転職後、COOに
 就任。その2カ月後に株式会社ディー・エヌ・エーにM&A
 、子会社化。子会社代表とDeNA広告ビジネス部長を兼任
 する。2017年6月、株式会社overflowを創業。2018年から2020
 年までエキサイト株式会社社外取締役を兼任。\n\n\n\n
 高柴 慶人\n株式会社ハイヤールー 取締役COO\n大学卒業
 後、ソフトウェアエンジニアとして4社に渡り開発に携
 わる。2018年LINE株式会社にプランナーとして入社。2020
 年同社のコマースメディアの事業責任者に。その後Opn
 株式会社でGlobal PDMを経て、2022年に株式会社ハイヤー
 ルーに参画。2023年1月に同社取締役COO就任。ハイヤー
 ルーではエンジニア採用におけるミスマッチの防ぎ方
 を主に提案。\n\nこんな方におすすめ\n\nエンジニア採
 用に関わる方\nエンジニアリングマネージャーの方\nCTO
 等の役割をご担当されている方\n\n参加費\n無料\n注意
 事項\n\n本イベントの対象者様以外、または同業他社様
 のお申込みについては、お断りさせていただく場合が
 ございます。\n本セミナーはオンラインで開催いたし
 ます。オフィス/リモートワーク先/ご自宅から、お気
 軽にご参加ください。\nセミナー後半にQ＆Aセッション
 を設けておりますので、ぜひご参加ください。\n
LOCATION:
URL:https://techplay.jp/event/963993?utm_medium=referral&utm_source=ics&utm
 _campaign=ics
END:VEVENT
END:VCALENDAR