第82回 CVD研究会

第82回CVD研究会を京都経済センターにて，6名の講師の方をお招きして開催いたします。
多数の方々のご参加をお待ちしています。

日　　時 ： 令和6年12月6日（金）10：30 ～17：00
場　　所 ： 京都経済センター4階　午前：４－D、午後：４－F
　　　　　https://keizai-center.kyoto/access/
共　　催 ： 化学工学会反応工学部会CVD反応分科会，
　　　　　化学プロセス研究コンソーシアム ナノ材料プロセス研究グループ
参 加 費 ： CVD研究会会員　3,000円
　　　　　共催学協会会員(大学・国公研)　5,000円
　　　　　共催学協会会員(企業関係者)　10,000円
　　　　　一般　15,000円
　　　　　学生　1,000円
交流会費 ： 4,000 円（当日集金します）
申込締切 ： 令和6年11月29日（金）12時
　参加費は、クレジットカード払いでお願いします。
　請求書払いを希望される場合は、事務局にご相談ください。
　（お問い合わせ先）
　　 CVD研究会　（会長 河瀬元明, 事務局 影山美帆）　e-mail: cvd@cheme.kyoto-u.ac.jp
　　 〒615-8510　京都市西京区京都大学桂　 　Tel： 075-383-2663, 　Fax： 075-383-2653
　　 （京都大学大学院工学研究科化学工学専攻反応工学分野内）

プログラム
10:30–11:15 「Cat-CVDでの窒化Si膜堆積とその太陽電池応用」
　北陸先端科学技術大学院大学 先端科学技術研究科 教授　大平 圭介 氏

11:15–12:00 「ミストCVD法によるCr2O3基板への低欠陥Ga2O3成膜」
　日本ガイシ株式会社　研究開発本部　渡邊 守道 氏

12:00–13:30 昼休み
13:30–13:40 令和6年度CVD研究会総会

13:40–14:25 「PFAS規制に関して」
　日本フルオロケミカルプロダクト協議会（セントラル硝子株式会社）　瀬戸口 稔 氏
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　名倉 裕力 氏

14:25–15:10 「原子層堆積法に向けた高反応性原料と供給方法」
　大陽日酸(株)　 清水 秀治 氏

15:10–15:20 休憩

15:20–16:05 「エッチングプロセスの機械学習を用いた最適化（仮題）」
　(株)日立製作所　研究開発グループ　大森 健史 氏
　　　　　　　　　　　　　　　　　　森崎 　　氏

16:05–16:50 「大気圧・準大気圧プラズマによる材料プロセスの最前線：
　プラズマ援用インクジェット法および単結晶ダイヤモンドCVDの応用例（仮題）」
　産業技術総合研究所　新田 魁洲 氏

17:15–19:00 技術交流会（楽坐 青天家 ラクザハレルヤ）